来源:《微纳电子技术》2002年第08期  作者:
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日研制出nm级X射线膜厚测定仪日本理学电机(株)研制出可以测定1nm级超薄金属膜的射线膜厚测定仪GXR300并已开始出售。该产品是通过X射线干涉测定膜厚,通过X射线衍射测定膜结构,通过荧光X射线分析进行膜组分分析的复合型系统。此前,上述工作通常是分别在不同的仪器上完成的,而现在在这一台测定仪上就可以完成了,这不仅大大缩短了测定时间而且可大幅度地降低测定成本。这种测定仪主要是用来测定栅氧化膜、TiN、TaN等隔离金属膜、CoSi等硅化物膜为代表的金属、金属氧化物以及化合物薄膜。由于是利用X射线波动干涉,所以不需要标准样品。另外,该测定仪通过平行束光学系统锁定曲线,简便地评价Al、Cu等金属薄膜的结晶性和取向性;还可分析堆积在电极上的含有同种元素的介质薄膜的成分。该测定仪也可用来分析多层膜的组分,方法是利用在全反射临界角附近的X射线进入深度的变化,通过荧光X射线法定量地测定含有同样成分的多层膜各层的组分。这种测定仪的最大特点是所有测定、数据分析,都可以像食谱一样设定,然后进行自动测定。该测定仪可与200mm和300mm工艺对应。每台售价6500~7500万日元,第一年预计可出售10台。用碳(本文共计1页)......[继续阅读本文]

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