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来源:《材料导报》2007年第04期  作者:黄佳木;徐爱娇;蔡明;
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磁控溅射WO_x-Ti(Mo,Ni,V)薄膜的电致变色性能

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采用反应磁控溅射工艺分别制备掺杂Ti、Mo、Ni、V的WOx薄膜,研究了掺杂对其电致变色性能的影响机理。实验结果表明,适量的掺杂可以提高薄膜的电致变色性能,Mo的掺杂可以调节光谱吸收范围,Ni、V的掺杂可以提高记忆存储能力,Ti的掺杂可以延长循环寿命;磁控溅射制备的掺杂WOx薄膜均为非晶态。(本文共计4页)......[继续阅读本文]

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