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来源:《电子世界》2018年第17期  作者:余舒娴;翁超;崔泰城;史化;魏雪文;范昌荣;柴国庆;
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ArrayTFT基板Open类不良的研究

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为了降低Array TFT基板生产过程中的Data Open(DO)不良,提高成品率,本文研究并分析了玻璃基板刻蚀粗糙度、翘曲率、Particle数值三个因素对DO不良的影响。首先,使用不同状态的玻璃基板进行DO不良测试。然后,通过原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)、能量色散X射线光谱仪(EDX)、台阶仪(Step Profiler)对玻璃基板的表面状态和组成成分进行测试。最后,通过实验数据和表征分析结果对玻璃基板的DO不良进行分析。实验结果表明:(1)A玻璃基板刻蚀前后粗糙度比:刻蚀后/刻蚀前=3.44,B玻璃的为1.42。对于双氧水基铜刻蚀液,不同玻璃的刻蚀效果敏感于玻璃成分差异。而且,玻璃基板的粗糙度和DO不良率成正相关,刻蚀后表面粗糙度越小,DO发生率越低;(2)玻璃基板越平整即玻璃翘曲率越小,DO不良率越低;(3)玻璃基板上的Particle越低(80以下/Glass),玻璃表面越干净,DO发生率越低。对这三个因素与DO不良关系的研究将为生产过程中的DO不良改善提供依据。(本文共计4页)......[继续阅读本文]

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