来源:《光机电信息》2002年第03期  作者:方舟 ,严寒 ,小平
选择字号

光刻

收藏本文  分享

2002030181曝光装置用G20K型KrF准分子激光器=露光装置用KrFエキシマレ-ザ“G20K”犤日犦/中尾清春∥光アライアンス.—2000,11(1).-37~382002030182新的真空紫外光源=新しい真空紫外光源犤日犦/佐佐木亘∥光アライアンス.—2000,12(7).-36~392002030183下一代器件和157nm的曝光方法=次次世代のデバイスと157nmの露光方法犤日犦/子腾氏∥光技术コンタクト.—2000,38(6).-36~372002030184剖析半导体制造用的光刻装置=半导体制造用リソグラフイ装置を解剖する犤日犦/中川正弘∥光アライアンス.—2000,12(3).-37~412002030185下一代光刻用的氟化单晶光学材料=次世代光リソグラフイ-用光学材料としてのフツ化物单结晶犤日犦/岛村清史...∥光アライアンス.—2000,11(10).-28~312002030186光刻用短波长准分子激光器的动向=リソグラフイ用短波长エキシマレ-ザ-の动向犤日犦/沟口计∥光アライアンス.—2000,11(2).-13~162002030187极紫外光刻机光学(本文共计2页)......[继续阅读本文]

下载阅读本文订阅本刊

图书推荐

    相关文章推荐

    看看这些杂志对你有没有帮助...

    更多杂志>>