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来源:《功能材料》2009年第09期  作者:拜山·沙德克;吉吾尔·吉里力;卡马勒·托克达尔汗;
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NiFe/Ru薄膜的磁学性能的研究

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主要讨论了多层薄膜SiO2/NiFe/Ru的磁学特性,着重研究了保护层Ru对磁性薄膜NiFe的厚度及磁性的影响。采用X射线衍射仪及X射线光电子能谱仪对该薄膜进行了结构测试和深度剖析,并且运用XPSPeak4.1拟合软件对获得的Ru3d的高分辨XPS谱进行了计算机拟合分析;结果表明,Ru更加适合于做保护层,渴望在自旋电子器件上得到应用。(本文共计3页)......[继续阅读本文]

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