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来源:《光学学报》2015年第04期  作者:刘逢芳;朱兆杰;童元伟;
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光子晶体负折射材料中缺陷对成像质量的影响

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利用硅介质柱在空气中周期性排列构成六角结构的光子晶体平板,并在晶体平板中引入不同构型的缺陷,通过改变缺陷介质柱的半径和缺陷中心位置探讨引入缺陷对成像质量产生的影响。时域有限差分法模拟结果表明:介质柱半径和位置的改变,能使光的透射率提高,增加像方的强度。由于缺陷的引入,缺陷之间的相互干扰会降低成像的分辨率。(本文共计8页)......[继续阅读本文]

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