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来源:《光学学报》2019年第10期  作者:王冠利;宁提纲;郑晶晶;李晶;许建;魏淮;裴丽;马绍朔;
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新型双沟槽抗弯曲大模场扇形瓣状光纤研究

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提出了一种新型的抗弯曲大模场面积光纤方案——双沟槽辅助型扇形瓣状光纤。与传统的扇形瓣状光纤及单沟槽辅助扇形瓣状光纤相比,该结构具有更大的模场面积和更好的高阶模抑制能力。研究结果表明:在弯曲半径为20 cm,波长为1.55μm时,光纤的有效模场面积可达1096μm~2,高阶模与基模损耗比大于100;此外,所提出的光纤对弯曲方向不敏感,弯曲方向在[-180°,180°]范围内变化时,光纤性能保持稳定。(本文共计9页)......[继续阅读本文]

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