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来源:《红外研究》1989年第05期  作者:许培忠,严义埙
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锗膜沉积工艺的实验研究

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实验研究发现,采用离子束辅助沉积技术能改进膜层的性能,消除或减小膜层的应力.由实验得到:为保证锗膜具有较好的光学性能和机械性能,基底温度须加热至约150℃;对锗膜比较适合的离子束能量约为150eV;束流密度约为50μA/cm~2.(本文共计6页)......[继续阅读本文]

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