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以真空紫外激光吸收光谱学测量氟原子

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为处理大规模集成电路 ,必须控制蚀刻 Si O2 的氟原子密度。日本京都大学的研究者提出用真空紫外激光吸收技术评估氟浓度的方法。在实验装置中 ,科学家用氙气双光子共振四波混频过程在 95nm产生连续可调谐紫外光。亲本气体的背景吸收和氟碳等离子体产生的成分可由扫描波长来消除。用积分吸收线分布图确定氟原子的绝对密度。以真空紫外激光吸收光谱学测量氟原子(本文共计1页)......[继续阅读本文]

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