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厚薄膜测量

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为透明和半透明材料、厚薄膜测量设计的薄膜厚度测量装置性能好于类似的 CCD系统。光谱国际公司的薄膜厚度测量装置能测量比类似 CCD传感器薄的膜。薄膜厚度分辨率为 2 nm,重复性在± 1%或 0 .4 nm,可在现场单独应用。此装置可用于计算吸收和非吸收材料的折射率 ,可进行多个薄膜层的同时测量。也可用于测量未知厚度和未确定成分的膜。系统可测量电介质膜 ,如氮化物、氧化物 (氧化硅、氧化铝 )等聚合物涂层和吸收材料薄膜 (如硅、聚硅、无定形硅和其他半导体材料 )。此装置性能先进 ,有广泛应用 (包括半导体晶片、太阳电池、平板显示和光学涂膜 )厚薄膜测量(本文共计1页)......[继续阅读本文]

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