来源:《金属功能材料》2013年第01期  作者:
选择字号

薄膜材料

收藏本文  分享

Ni77Fe14Cu5Mo4薄膜的交换偏磁场HEB美国南佛罗里达大学H.F.Kirby等人研究了若干组Ni77Fe14Cu5Mo4/Fe50Mn50复合物的磁性同NiFeCuMo层厚度及基层/缓冲层材料的关系。以Ta和Cu为缓冲层,成长在140nm厚SiOx圆片上,有些Cu则成长在Si圆片上。NiFeCuMo呈现出经典的交换偏磁场HEB特性:HEB和矫顽力(本文共计1页)......[继续阅读本文]

下载阅读本文订阅本刊

图书推荐

    相关文章推荐

    看看这些杂志对你有没有帮助...

    更多杂志>>