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来源:《科技风》2017年第23期  作者:罗琛;
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微电子行业新型湿法清洗工艺分析

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在微电子产业高速发展的时代,对微电子器件的清洁性要求越来越高。但硅片表面的污染物将对集成电路元器件的性能造成极大的影响。因此,对硅片表面进行清洗是保证器件性能及提高器件成品率必不可少的一步。本文就微电子行业新型湿法清洗工艺的应用进行分析。(本文共计1页)......[继续阅读本文]

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