来源:《科技与创新》2015年第11期  作者:梁娟;徐伟;吴智量;郭宏运;宁俭;吕金锦;
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氢等离子体原子、分子过程研究

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在微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置中,氢气作为镀膜工艺中重要的参与气体,对镀膜工艺有直接的影响。在微波放电等离子体发生装置中激发氢等离子体,使用高分辨率的多道光谱分析仪实时采集Hα谱线,对谱线的线型分布进行微分,得出谱线的能量分布,进一步分析氢原子在等离子体中经历的分子过程。结果显示,氢原子的能量分布有3个明显的能量峰,分别在0.3 e V处、2.5 e V处和3 e V处。其中,0.3 e V处的峰比较强,表明在微波放电等离子体条件下,氢原子发生的分子过程主要是离解激发。(本文共计2页)......[继续阅读本文]

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