来源:《科技创新导报》2013年第12期  作者:周川;刁显珍;彭著林;文克银;
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纳米WO_3光催化材料的研究现状

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与传统的有机污染处理方法相比,光催化技术降解速度更快,降解程度更大,因而半导体光催化技术作为一种污染治理的新技术越来越受到人们的重视。本文综述了纳米三氧化钨光催化材料的研究现状,提出了提高纳米三氧化钨光催化性能的方法以及未来发展方向。(本文共计2页)......[继续阅读本文]

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