来源:《电子工业专用设备》1994年第02期  作者:武世香,邹斌,陈士芳
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一种新型接触式双面对版曝光机

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本文介绍一种新型双面对版曝光机。该机由传统的单面曝光机改装而成,结构简单,工作原理新颖,操作简便,能方便地在任意中间工序实现晶片定向和双面图形对准曝光。双面图形对准偏差可控制在±10μm以内。本文并分析比较了各种双面对版曝光设备和技术特点。(本文共计5页)......[继续阅读本文]

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