来源:《河北工业科技》2008年第04期  作者:孙秀新;闫国婷;杨宇龙;
选择字号

化学发光新体系在药物分析中的应用研究进展

收藏本文  分享

化学发光分析是根据化学发光反应产生的光辐射确定物质含量的一种痕量分析方法。针对化学发光分析灵敏度高、线性范围宽、分析速度快等优点,介绍了近年来化学发光新体系(无机氧化剂)在药物分析中的应用研究进展。(本文共计4页)......[继续阅读本文]

下载阅读本文订阅本刊

图书推荐

    相关文章推荐

    看看这些杂志对你有没有帮助...

    更多杂志>>