来源:《河北工业科技》2008年第06期  作者:乔晓光;张湘义;
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工艺参数对钴纳米线的结构和磁性能的影响

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通过调节沉积电流密度动态地控制钴纳米线择优生长方向,调节沉积液pH值观察其磁各向异性特点,并比较它们的磁性能。利用氧化铝模板直流恒电流电化学沉积方法,调节电流密度和pH值的大小,制备出一系列钴纳米线阵列,并利用XRD衍射仪和VSM振动磁强计测量其磁性能,包括矫顽力、剩磁比和各向异性的特点。通过调节电流制备出了包括[101]择优取向、[100]择优取向及非晶态等结构的一维钴纳米线阵列,重点分析了具有[101]择优取向纳米线阵列的特点;通过调节溶液pH值得出了纳米线磁各向异性的特点,实现了工艺参数对纳米线的结构和性能的控制,总结出了钴纳米线对于[101]择优晶向的易磁化规律。(本文共计5页)......[继续阅读本文]

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